产品说明： 设备基本原理及主要用途： 1、 该设备 广泛应用于激光透明陶瓷、 闪烁透明陶瓷、 半导体材料、 钨钼合金等在高温、 高真空和气氛条件下进行烧结处理。

主要技术参数：
1、 额定功率： 55KW， 三相 380V
2、 最高温度： 2300℃
3、 工作稳定： 2200℃
4、 冷态极限真空度： 5× 10-4Pa（空炉、 冷态）
5、 压升率： ≤3Pa/h
6、 测温方式： 钨铼热电偶+红外测温仪
7、 仪表控温精度： ±1℃
8、 充气压力（微正压）： ≤0.05MPa（氮气， 氩气及混合气体）
9、 炉膛有效尺寸： Φ 140× 140mm
10、 控温方式： PLC+触摸屏电脑全自动控制（记录温度、 真空度、 烧结时间
等曲线）
11、 加热方式： 钨丝加热
12、 保温屏： 钨组合屏
12、 取料方式： 上出料

11、 炉型： 立式结构

注：可根据用户要求定做各种型号非标产品。专业制作，贴心服务。

联系方式

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