产品说明:该设备广泛应用于激光透明陶瓷、闪烁透明陶瓷、半导体材料、钨钼合金等在高温、高真空条件下进行烧结处理。
设备用途
本设备广泛应用于激光透明陶瓷、闪烁透明陶瓷、半导体材料、钨钼合金等在高温、高真空条件下进行烧结处理。
结构说明
一、和同类产品相比有以下优势:1、结构新,外形美观。 2、加热速度快,节能。3、真空度高、在同类产品中处于领先地位。4、质量可靠、所用材质为优质材料。5、进口控温器、能控制水温在5℃至35℃/换热速度快,并有安全警报。6、面板显示及电器连锁:电流、电压、温度、真空度、水压。7、电器连锁及声光报警。并且可根据客户工艺进行设计定制。8、性价比高,可根据客户需求来按期完工。
二、设备主要技术参数 本设备温度范围:室温至2000℃其它参数(工作尺寸、真空度等)可根据客户的工艺及要求来制作。
三、结果说明:此设备由炉壳、炉盖、炉底、炉架、真空系统、发热体及隔热屏、电气控制系统、控温系统、水冷系统、变压器及连接铜排、充放气系统组成。炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构,炉壳温度不超过50℃。炉子低温采用热电偶测温,高温时采用红外测温仪测温。真空系统采用直联泵和分子泵。电器元件均作为名牌产品,所用程序仪表,客户可自行设定程序。
型号与主要参数
型号
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名称
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额定功率(Kw)
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工作温度
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工作区尺寸
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极限真空度
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CXZW-15-20
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真空钨丝烧结炉
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15Kw
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0至2300℃
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Φ90×120㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-40-22
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真空钨丝烧结炉
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40Kw
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0至2300℃
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Φ140×160㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-45-20
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真空钨丝烧结炉
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45Kw
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0至2300℃
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Φ200×200㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-50-20
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真空钨丝烧结炉
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50Kw
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0至2300℃
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Φ220×300㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-60-20
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真空钨丝烧结炉
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60Kw
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0至2300℃
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Φ280×320㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-100-20
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真空钨丝烧结炉
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100Kw
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0至2300℃
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Φ300×350㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-120-20
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真空钨丝烧结炉
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110Kw
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0至2300℃
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Φ320×320㎜
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1至5×10-5Pa
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CXZW-150-20
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真空钨丝烧结炉
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130Kw
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0至2300℃
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Φ320×600㎜
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1至5×10-5Pa
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注:可根据用户要求定做各种型号非标产品。专业制作,贴心服务。
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