小型真空等离子清洗机，
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
小型真空等离子清洗机
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供电电源
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AC220V（AC110V可选)
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工作电流
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整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)
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射频电源功率
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150W
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射频频率
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13.56MHz
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频率偏移量
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＜0.2MHz
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特性阻抗
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50欧姆，手动匹配
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耦合方式
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电容耦合
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真空度
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≤50Pa
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腔体材质
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高纯石英
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腔体容积
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2L(内径110MMX深度220MM)
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观察窗内径
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Φ50
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气体流量
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0—50ml/min（其他量程可选）
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过程控制
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过程手动控制
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清洗时间
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手动开关
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开盖方式
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铰链侧开式法兰
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外形尺寸
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450x450x360mm
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重量
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23Kg
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真空室温度
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小于65°C
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冷却方式
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强制风冷
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标配
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KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。
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